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極速成像準分子激光剝蝕系統(tǒng)

簡要描述:IRIDIA極速成像準分子激光剝蝕系統(tǒng)專為具有快速成像需求的地質及生物方面應用而設計。

  • 產(chǎn)品型號:IRIDIA
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-05-10
  • 訪  問  量: 3117

詳細介紹

美國CETAC的極速成像準分子激光剝蝕系統(tǒng)產(chǎn)品線源于全球行業(yè)之一的Photon Machines團隊(縮寫PMI),其第一代產(chǎn)品于1995年問世,該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設計、研發(fā)、制造及應用經(jīng)驗,產(chǎn)品線涉及213nm固體激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統(tǒng)(與ICP-MS聯(lián)用),及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)(與惰性氣體同位素質譜聯(lián)用),此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統(tǒng)的功能,足以為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術。


IRIDIA極速成像準分子激光剝蝕系統(tǒng)產(chǎn)品特點:

Iridia 極速成像激光剝蝕系統(tǒng)專為具有快速成像需求的地質及生物方面應用而設計。創(chuàng)新設計的剝蝕池以Teledyne集團LOGO主題色“鈷藍(Cobalt)"命名,簡化內部氣路布局,結合動態(tài)Z軸設計,提供毫秒級樣品氣溶膠洗出時間。結合CETAC研發(fā)的HDIP專用3D全景高性能剝蝕圖像處理軟件,實現(xiàn)了解元素分布,給操作者帶來良好使用體驗。集成的全封閉和主動通風的氣體柜中裝有分析所必需的準分子預混氣和氦氣氣瓶,有效節(jié)省空間。


準分子激光剝蝕

準分子激光剝蝕




IRIDIA極速成像準分子激光剝蝕系統(tǒng)技術參數(shù):

  • 特殊訂制的準**激光器,足以進行20億次激發(fā)

  • 脈沖寬度<4ns,剝蝕光斑范圍1–210μm

  • 能量密度可達15J/cm2,亦可穩(wěn)定低于0.05J/cm2

  • 雙光學衰減器可為生物成像應用提供穩(wěn)定的低能量

  • 軟件控制的雙偏振系統(tǒng)有效用于地質成像應用

  • 新穎的光路反射鏡設計可供重復使用,降低分析成本

  • 可實現(xiàn)樣品臺觸發(fā)剝蝕,確保剝蝕位置的準確、可靠

  • 軟件控制的反射、透射及環(huán)形照明技術,確保觀察效果

  • 新型Cobalt半旋式全密封剝蝕池具備高速、亞微米精度移動平臺,兼容eQC剝蝕點激光能量監(jiān)測器

  • 極短的信號獲取時間有效提升數(shù)據(jù)采集速度

  • 新型樣品臺具有優(yōu)異的樣品載重比,支持訂制,透射光覆蓋范圍更廣

  • 整機緊湊式設計,有效節(jié)省實驗室空間


IRIDIA極速成像準分子激光剝蝕系統(tǒng)應用領域:

地球科學,物證分析,考古學,制藥,金屬,通用行業(yè)材料,生物/醫(yī)學



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